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1. 300mm Wafer AOI 정밀 스테이지 (SEMI)
적용 분야: 반도체 300mm 웨이퍼 AOI(자동 광학 검사)
주요 사양:
1. 300mm Wafer AOI 정밀 스테이지 (SEMI)
적용 분야: 반도체 300mm 웨이퍼 AOI(자동 광학 검사)
주요 사양:
위치 정밀도: ±0.5 μm
반복 정밀도: ±0.25 μm
위치 안정도: ±0.01 μm
스테이지 크기: 1,400(W) × 1,250(L) × 1,635(H) mm
반도체 생산 공정의 AOI(자동 광학 검사) 장비에 적용되는 고정밀 스테이지로, 미세한 위치 제어와 높은 안정성을 제공합니다.
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